中科院：上海光機所計算光刻技術(shù)研究取得進展

　　中證網(wǎng)訊（記者 王可 李嵐君）6月10日，中國科學院官網(wǎng)刊文稱，近日，中國科學院上海光學精密機械研究所（簡稱“上海光機所”）信息光學與光電技術(shù)實驗室在計算光刻技術(shù)研究方面取得進展，提出了一種基于虛擬邊與雙采樣率像素化掩模圖形的快速光學鄰近效應修正技術(shù)（OPC）。在光刻機軟硬件不變的情況下，采用數(shù)學模型和軟件算法對照明模式、掩模圖形與工藝參數(shù)等進行優(yōu)化，可有效提高光刻分辨率、增大工藝窗口，此類技術(shù)即計算光刻技術(shù)。該技術(shù)被認為是推動集成電路芯片按照摩爾定律繼續(xù)發(fā)展的新動力。